4月24日消息，據(jù)外媒報道，臺積電仍采用鰭式場效應(yīng)晶體管架構(gòu)的3nm制程工藝，在去年的12月29日正式開始商業(yè)化生產(chǎn)，雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業(yè)界看好。

　　對于3nm制程工藝，臺積電管理層在一季度的財報分析師電話會議上，也有重點談及。

　　在財報分析師電話會議上，臺積電CEO魏哲家表示，他們的3nm制程工藝以可觀的良品率量產(chǎn)，在高性能計算和智能手機應(yīng)用需求的推動下，客戶對3nm制程工藝的需求超過了他們的產(chǎn)能，他們預(yù)計今年的產(chǎn)能將得到充分利用。

　　魏哲家在會上還透露，他們的3nm制程工藝，預(yù)計從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收，在他們今年全年晶圓代工業(yè)務(wù)收入中所占的比例預(yù)計為中等個位數(shù)。

　　魏哲家在會上還表示，從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來看，他們的3nm制程工藝都是目前最先進的半導(dǎo)體技術(shù)，他們也因此預(yù)計客戶對他們的3nm制程工藝的強勁需求將持續(xù)多年，他們有信心3nm制程工藝家族成為他們另一個大而持久的工藝節(jié)點。