隨著日本半導體制造能力的不斷提升，荷蘭光刻機巨頭ASML宣布將大幅擴充其在日本的維護團隊。據(jù)《日經(jīng)亞洲》報道，ASML計劃在未來幾年內將其駐日團隊規(guī)模擴大至當前的5倍，預計到2027年達到100人。這一舉措旨在更好地服務日本客戶，包括Rapidus、美光和臺積電日本子公司JASM等企業(yè)，這些項目將引入ASML提供的EUV光刻設備，用于先進制程生產(chǎn)。

　　除了EUV設備，日本還廣泛使用DUV機臺，進一步提升了對ASML設備的需求。更大的本地支持團隊能夠快速響應客戶需求，減少設備停機時間，為日本半導體產(chǎn)業(yè)提供更高效的保障。這標志著ASML對日本市場的高度重視，以及雙方在技術合作上的深化。